传统芯片像整块大蛋糕,做大了容易开裂、报废、造价极高;Chiplet(芯粒/小芯片)就是把蛋糕切成小块单独烘烤,
再拼装成整块,是当下AI芯片、高端CPU/GPU主流升级路线,下面用大白话整理100条核心知识,搭配配图说明点位。
一、基础概念篇(1~15条)
1、Chiplet中文叫芯粒、小芯片,全称模块化拆分裸片集成技术。
2、传统单片SoC:CPU、缓存、接口、供电全部做在同一块硅片上。
3、Chiplet核心思路:一块大芯片拆成多块独立小裸片(Die),封装拼接成完整芯片。
4、裸片Die:晶圆切割后单块硅晶片,能独立通电工作;芯粒是带专属功能的裸片。
5、拆分原则:按功能分开,计算、缓存、接口、供电分开做,互不干扰。
6、异构集成:算力小块用先进工艺(3nm/4nm),接口、供电用便宜成熟工艺(14nm/28nm)。
7、同构芯粒:多块一模一样的算力小芯片拼接,单纯堆算力。
8、单片芯片短板:芯片面积越大,生产良品率越低,一块坏点整片报废。
9、Chiplet首要目的:缩小单块裸片面积,提升良品率、降低高端芯片生产成本。
10、晶圆Wafer:圆形硅原材料,整片做完电路再切割成无数裸片。
11、芯粒不能随便切割:切割处要预留接线点位,不能切断内部电路走线。
12、模块化复用:一款芯粒做好后,可重复用在多款不同芯片里,不用反复重新设计。
13、SiP系统级封装:大范围封装统称;Chiplet属于裸片直接互联的高阶SiP。
14、单片芯片迭代:升级就要整片重新流片,耗时久、花钱多;芯粒只需更换升级对应小块。
15、电路分区逻辑:高频算力区、低速接口区、高压模拟区分开,避免工艺互相拖累。

二、芯粒功能分类篇(16~28条)
16、计算芯粒:装CPU核心、GPU算力单元、AI运算NPU,负责核心算力,多用先进制程。
17、IO接口芯粒:负责外接内存、显卡插槽、网线、USB接口,耐受电压高,不用先进工艺。
18、缓存芯粒:单独做L3、L4大容量缓存,单独加装就能扩大缓存容量。
19、显存芯粒:搭配HBM高速显存裸片,专门给AI显卡做显存扩容。
20、供电芯粒PMIC:稳压、供电电路,属于模拟电路,成熟制程即可满足。
21、射频通信芯粒:手机基带、天线信号模块,模拟电路占比高,单独拆分更划算。
22、中介层芯粒:不带算力,只负责给各个芯粒做中间布线搭桥。
23、散热辅助芯粒:搭配导热基底,解决多块芯片堆叠后的发热不均问题。
24、粗拆分:一颗芯片拆3~5块大芯粒,难度低、封装成本偏低。
25、细拆分:拆十几块微型芯粒,集成密度更高,适合超大算力AI芯片。
26、算力扩容:多加一块计算芯粒,就能直接提升芯片算力,不用重做整片芯片。
27、存储扩容:单独叠加缓存、显存芯粒,灵活调节显存大小。
28、拆分黄金规律:数字电路与模拟电路分开、高压低压分开、快慢频率电路分开。
三、芯粒互联通信篇(29~45条)
29、D2D互联:Die to Die裸片互联,就是小块芯片之间互相传数据的通道。
30、普通引线键合:老式细铜线连接,距离长、传输慢,仅低端封装使用。
31、倒装FC工艺:裸片倒扣摆放,接线点朝下,是高密度互联基础工艺。
32、微凸点Micro Bump:芯片之间细小金属焊点,微米级别,普通芯粒主流连接方式。
33、混合键合Hybrid Bonding:铜与铜直接贴合粘接,无焊锡,目前传输最快、密度最高的互联方式。
34、TSV硅通孔:在硅片内部打垂直小孔,实现芯片上下堆叠互通,用于3D堆叠。
35、RDL重布线层:在封装基底铺设金属线路,连通分散摆放的各个芯粒。
36、中介层3大类:硅中介层、有机树脂中介层、玻璃中介层,作用都是搭桥走线。
37、2.5D封装:所有芯粒平铺摆放在中介层上方,横向并排拼接。
38、3D封装:芯粒上下垂直堆叠摆放,纵向压缩体积、缩短传输距离。
39、2.5D适合堆算力;3D适合堆叠缓存、显存,缩短数据传输距离。
40、互联三大核心指标:传输带宽、信号延迟、传输功耗。
41、带宽密度:单位面积内能跑多少数据,混合键合带宽远超普通焊点。
42、走线越长,数据损耗越大、耗电越高,所以堆叠比平铺更省电。
43、并行互联:近距离大量铜线同步传数据,延迟更低;串行互联适合远距离传输。
44、键合对位精度:拼接时微米级对齐,错位会造成线路断路、短路损坏芯片。
45、芯粒可单独检测:每块小芯片提前质检,坏掉的裸片直接淘汰,不影响整套成品。

四、先进封装工艺体系(46~60条)
46、先进封装AP:区别老式普通封装,是Chiplet落地必备封装技术。
47、台积电三大封装路线:CoWoS(2.5D硅中介层)、SoIC(铜键合3D堆叠)、Fan-out扇出封装。
48、三星封装方案:I-Cube(2.5D平铺)、X-Cube(3D垂直堆叠)、混合堆叠H-Cube。
49、英特尔核心封装:EMIB硅桥互联、Foveros 3D堆叠、ODI芯粒互联方案。
50、Fan-out扇出封装:向外拓展布线区域,省去厚重硅中介层,性价比更高。
51、CoWoS封装:搭配整片硅中介层,布线密集,多用于高端AI显卡。
52、SoIC工艺:裸片面对面紧密贴合堆叠,适合缓存与算力芯粒叠放。
53、EMIB硅桥:小块硅片做桥梁连接芯粒,比整片中介层成本更低。
54、Foveros:裸片上下垂直堆叠工艺,常搭配EMIB做成混合架构。
55、基板Substrate:芯片最底层承载底板,用来连接主板线路。
56、塑封Molding:封装最后用胶体包裹裸片,兼顾防护与基础导热。
57、晶圆级封装WLP:整片晶圆统一做完布线粘接,再切割成品,量产成本更低。
58、基板级拼装:裸片先切割完毕,再一块块摆到底板上拼装,灵活度更强。
59、CTE热膨胀匹配:硅片、中介层、底板受热膨胀幅度不同,搭配不当易扯断焊点。
60、多芯粒散热难点:不同小块发热差距大,封装结构需要做均热导热设计。
五、互联协议标准篇(61~70条)
61、UCIe:全球通用开放芯粒互联标准,行业统一接口规范。
62、UCIe作用:让不同品牌厂商的芯粒,能够互相拼接兼容。
63、OpenHBI:侧重显存与算力芯粒互通的高速开放总线标准。
64、Infinity Fabric:AMD自研互联总线,用于锐龙CPU、MI系列显卡芯粒互通。
65、NVLink:英伟达自研内部互联协议,多用于显卡内部芯粒通信。
66、PCIe、CXL属于主板板级互联,不属于芯片裸片之间D2D互联。
67、芯粒协议四层结构:物理接线层、链路传输层、协议规则层、适配转换层。
68、并行互联协议:延迟低、功耗偏高;串行协议:传输距离远、功耗更优。
69、芯粒标准化两大方向:通信接口统一、芯粒长宽尺寸统一。
70、封闭自研协议:大厂自用兼容性差;开放标准协议利于行业普及。

六、优缺点与成本逻辑(71~82条)
71、优点1:拆分后单颗裸片面积变小,生产良品率大幅提升。
72、优点2:高端算力只用昂贵先进制程,其余模块用老工艺,整体流片总成本下降。
73、优点3:产品迭代更快,仅升级需要换代的芯粒,不用整片重新研发流片。
74、优点4:灵活搭配配置,同款算力芯粒可搭配不同显存、不同接口做成多款芯片。
75、优点5:突破单片芯片面积上限,造出远超传统单片尺寸的超大算力芯片。
76、优点6:老旧成熟芯粒可长期复用,减少重复研发投入。
77、缺点1:多芯粒之间数据互通会产生额外延迟,速度略低于完美单片芯片。
78、缺点2、先进封装设备、键合工艺门槛高,封装环节成本会上涨。
79、缺点3:多块芯片集中发热,散热设计难度远大于普通单片芯片。
80、缺点4:多芯粒供电走线更复杂,电源设计难度提升。
81、缺点5:早期非标芯粒互不兼容,各家规格不一,通用化落地较慢。
82、成本平衡点:芯片规格越大、制程越先进,Chiplet省钱优势越明显;小芯片拆分反而会增加成本。
七、落地应用场景(83~92条)
83、AI大算力芯片:当前Chiplet最大落地场景,大模型训练显卡普遍采用芯粒拆分。
84、高端桌面CPU:AMD锐龙全系采用芯粒架构,实现多核大规模拓展。
85、数据中心服务器CPU:多计算芯粒拼接,实现几十上百核心扩容。
86、高端游戏GPU:拆分算力芯粒与显存芯粒,灵活调配显存容量。
87、车载自动驾驶芯片:算力、感知、供电模块拆分,兼顾性能与稳定性。
88、高端手机SoC:少量拆分算力与射频模块,兼顾功耗与发热控制。
89、FPGA可编程芯片:模块化拆分,按需增减逻辑单元芯粒。
90、HBM显存搭配:显存芯粒独立堆叠,是AI芯片标配组合方案。
91、边缘算力芯片:轻量化小芯粒组合,适配小型设备算力需求。
92、国产芯片突破路线:借助芯粒拆分,避开单片先进制程瓶颈,快速做大算力。

八、行业痛点、发展趋势(93~100条)
93、现存痛点1:芯粒尺寸、接口标准尚未完全统一,跨厂拼装难度大。
94、现存痛点2:芯粒间互联功耗偏高,远距离传输耗电问题待优化。
95、现存痛点3:多芯粒同步调度软件算法复杂,芯片调度系统优化难度大。
96、趋势1:UCIe开放标准逐步普及,芯粒走向通用化、货架化采购。
97、趋势2:混合键合逐步替代传统微凸点,成为主流高密度互联方式。
98、趋势3:2.5D平铺与3D垂直堆叠结合的混合封装架构成为主流方案。
99、趋势4:芯粒拆分粒度越来越细,微型Mini芯粒成为下一代发展方向。
100、趋势5:Chiplet搭配光互联、玻璃中介层新技术,进一步降低互联延迟与成本。
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